Dépôt par ALD de couches ultra-minces en sulfure de vanadium pour la réalisation de contacts performants dans les transistors à base de dichalcogénures 2D // Atomic layer deposition of vanadium sulfide contacts for next-generation transistors based on 2D
ABG-125123
ADUM-57530 |
Sujet de Thèse | |
13/07/2024 |
Université Grenoble Alpes
Grenoble - France
Dépôt par ALD de couches ultra-minces en sulfure de vanadium pour la réalisation de contacts performants dans les transistors à base de dichalcogénures 2D // Atomic layer deposition of vanadium sulfide contacts for next-generation transistors based on 2D
- Numérique
Dépôt chimique en phase vapeur, dichalcogénures de métaux de transition, caractérisations structural et électriques, Rayonnement synchrotron, mécanismes de croissance
Atomic Layer Deposition, chemical, structural and electric caraterisations , 2D metal calchogenides , Synchrotron radiation, growth mechanisms
Atomic Layer Deposition, chemical, structural and electric caraterisations , 2D metal calchogenides , Synchrotron radiation, growth mechanisms
Description du sujet
Le but principal de cette recherche est de développer et d'évaluer le potentiel du sulfure de vanadium, déposé sous la forme de couches atomiques, pour la réalisation de contact électrique efficace sur les transistors de prochaine génération fondés sur des semi-conducteurs dichalcogénure 2D. L'étudiant(e) réalisera le dépôt en couches atomiques (ALD) de films ultra-minces VSx au LMGP, dans un réacteur dédié permettant de réaliser des caractérisations optique, chimique et structurale in situ, notamment avec rayonnement synchrotron, dans le but de comprendre et maîtriser les mécanismes de croissance et les changements structuraux survenant lors de la cristallisation. Elle/il étudiera les propriétés électriques des films de VSx et des hétérostructures VSx/MoS2.
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The main purpose of this research is to develop and evaluate the potential of atomic layer-deposited vanadium sulfide as an efficient electric contact on next-generation transistors based on 2D dichalcogenide semiconductors. The student will achieve atomic layer deposition (ALD) of VSx films in a dedicated reactor at LMGP allowing in situ optical and chemical characterization along with structural and chemical characterization with synchrotron radiation, in order to get an insight into the growth mechanisms and structural changes occurring during the crystallization. She/he will investigate the electrical properties of the VSx films and VSx/MoS2 heterostructures.
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Début de la thèse : 01/10/2024
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The main purpose of this research is to develop and evaluate the potential of atomic layer-deposited vanadium sulfide as an efficient electric contact on next-generation transistors based on 2D dichalcogenide semiconductors. The student will achieve atomic layer deposition (ALD) of VSx films in a dedicated reactor at LMGP allowing in situ optical and chemical characterization along with structural and chemical characterization with synchrotron radiation, in order to get an insight into the growth mechanisms and structural changes occurring during the crystallization. She/he will investigate the electrical properties of the VSx films and VSx/MoS2 heterostructures.
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Début de la thèse : 01/10/2024
Nature du financement
Précisions sur le financement
Plan Investissement d'Avenir (Idex, Labex)
Présentation établissement et labo d'accueil
Université Grenoble Alpes
Etablissement délivrant le doctorat
Université Grenoble Alpes
Ecole doctorale
47 PHYS - Physique
Profil du candidat
Le candidat doit être engagé dans un programme de master de recherche en physique, chimie ou science des matériaux. Il/elle doit être motivé(e) par un travail à forte composante expérimentale (synthèse, caractérisations chimique, structurales et électrique). Il/elle doit faire preuve de capacité et d'initiative pour aller au cœur du problème et le traiter ; de bonnes compétences en matière de communication et d'organisation sont requises. Des connaissances en chimie moléculaire seraient appréciées.
The candidate must be engaged in a research master program in physics, chemistry or material science or closely related sciences. She/he should also have ability and initiative to get to the heart of the problem and bring it to completion; good communication, organizational and scientific skills are required.
The candidate must be engaged in a research master program in physics, chemistry or material science or closely related sciences. She/he should also have ability and initiative to get to the heart of the problem and bring it to completion; good communication, organizational and scientific skills are required.
31/12/2024
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